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  1. Professional Java EE design patterns
    Autor*in: Yener, Murat
    Erschienen: 2015
    Verlag:  Wrox, Indianapolis, Ind.

    Freie Universität Berlin, Universitätsbibliothek
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
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      BibTeX-Format
    Hinweise zum Inhalt
    Volltext (URL des Erstveröffentlichers)
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Theedom, Alex (Verfasser)
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Ebook
    Format: Online
    ISBN: 9781119209393; 9781118843581; 9781118843451; 9781118843413
    Weitere Identifier:
    RVK Klassifikation: ST 250
    Schriftenreihe: Programmer to programmer
    Schlagworte: Internet; Java (Computer program language); World Wide Web; Internet; Java (Computer program language); World Wide Web; Java (Computer program language); Internet; World Wide Web; Implementierungssprache; Entwurfsmuster; Java EE 7; Java Enterprise; Muster <Struktur>
    Umfang: 1 Online-Ressource (XXIX, 224 S.), graph. Darst.
    Bemerkung(en):

    Master Java EE design pattern implementation to improve your design skills and your application's architecture Professional Java EE Design Patterns is the perfect companion for anyone who wants to work more effectively with Java EE, and the only resource that covers both the theory and application of design patterns in solving real-world problems. The authors guide readers through both the fundamental and advanced features of Java EE 7, presenting patterns throughout, and demonstrating how they are used in day-to-day problem solving.

  2. Muster in der Phraseologie
    Monolingual und kontrastiv
    Autor*in:
    Erschienen: 2020
    Verlag:  Verlag Dr. Kovač, Hamburg

    Europa-Universität Viadrina, Universitätsbibliothek
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
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      BibTeX-Format
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Mellado Blanco, Carmen; Holzinger, Herbert J.; Iglesias Iglesias, Nely Milagros; Mansilla Pérez, Ana
    Sprache: Deutsch; Englisch
    Medientyp: Konferenzschrift
    ISBN: 9783339114327; 3339114323
    Weitere Identifier:
    9783339114327
    RVK Klassifikation: GC 8042 ; ES 460
    DDC Klassifikation: Sprache (400)
    Auflage/Ausgabe: 1. Auflage
    Körperschaften/Kongresse: Productive patterns in phraseology (Veranstaltung) (2019, Santiago de Compostela)
    Schriftenreihe: Studia Phraseologica et Paroemiologica ; Band 4
    Weitere Schlagworte: Linguistik; Kontrastive Phraseologie; Muster; Konstruktionen; Usuelle Wortverbindungen; Modifikationen; Idiomatik; gesprochenes Deutsch; Linguistik; Kontrastive Phraseologie; Muster; Konstruktionen; Usuelle Wortverbindungen; Modifikationen; Idiomatik; gesprochenes Deutsch
    Umfang: 276 Seiten, 29 Illustrationen, 21 cm x 14.8 cm, 368 g
    Bemerkung(en):

    Preface: "The present volume contains thirteen selected contributions on the topic of "phaseological pattern", which were presented at the international conference of the European Society for Phraseology EUROPHRAS 2019. The conference took place under the title "Productive Patterns in Phraseology" in Santiago de Compostela (Spain) on 24-25 January 2019 ... "

  3. Professional Java EE design patterns
    Autor*in: Yener, Murat
    Erschienen: 2015
    Verlag:  Wiley, Indianapolis, Ind.

    Humboldt-Universität zu Berlin, Universitätsbibliothek, Jacob-und-Wilhelm-Grimm-Zentrum
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Brandenburgische Technische Universität Cottbus - Senftenberg, Universitätsbibliothek
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
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      BibTeX-Format
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Theedom, Alex (Verfasser)
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Buch (Monographie)
    ISBN: 9781118843413; 9781118843581; 9781118843451
    RVK Klassifikation: ST 250
    Schriftenreihe: Wrox Programmer to Programmer
    Schlagworte: Entwurfsmuster; Implementierungssprache; Java Enterprise; Java EE 7; Muster <Struktur>
    Umfang: XXIX, 224 S., graph. Darst.
  4. Aufzeichnungsmaschine
    = Recording machine
    Erschienen: [2012]
    Verlag:  edition clandestin, Biel/Bienne

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      BibTeX-Format
    Hinweise zum Inhalt
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Mader, Rachel (Hrsg.); Stutz, Lisa (Hrsg.); Bippus, Elke (Hrsg.)
    Sprache: Deutsch; Englisch
    Medientyp: Buch (Monographie)
    Format: Druck
    ISBN: 9783905297393
    Weitere Identifier:
    9783905297393
    DDC Klassifikation: Zeichnung, angewandte Kunst (740)
    Schlagworte: Zeichnung
    Weitere Schlagworte: Weingartner, Irene (1971-); (Produktform)Hardback; Seismographische Aufzeichnungen; seismographic Recordings; Text-Zeichnung; das Labor; Naturwissenschaft; Erdbeben; Seismoskop; Muster; Luks; edition clandestin; Biel; (VLB-WN)1580: Hardcover, Softcover / Kunst
    Umfang: 142 Seiten, Illustrationen, 31 cm, 950 g
  5. The psychology of computer vision
    Autor*in:
    Erschienen: 1975
    Verlag:  McGraw-Hill, New York [u.a.]

    TU Darmstadt, Universitäts- und Landesbibliothek - Stadtmitte
    /CP 4000 W783
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Universitätsbibliothek J. C. Senckenberg, Bibliothek Naturwissenschaften (BNat)
    09/CP 4000 W783
    keine Fernleihe
    Universitätsbibliothek J. C. Senckenberg, Informatikbibliothek
    I.2-116
    keine Fernleihe
    Universitätsbibliothek J. C. Senckenberg, Bibliothekszentrum Geisteswissenschaften (BzG)
    01/CP 4000 W783
    keine Fernleihe
    Universität Marburg, Universitätsbibliothek
    Pk 76/3
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Bibliothek Physik
    AG Angewandte/Neurophysik
    keine Fernleihe
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      BibTeX-Format
    Hinweise zum Inhalt
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Winston, Patrick Henry (Hrsg.); Horn, Berthold
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Buch (Monographie)
    Format: Druck
    ISBN: 0070710481
    RVK Klassifikation: CP 4000 ; ES 900
    Schriftenreihe: McGraw-Hill computer science series
    Advanced book program
    Schlagworte: Sehen; Muster <Dekor>; Künstliche Intelligenz; Computer; Wahrnehmung
    Umfang: VI, 282 S., Ill., graph. Darst.
    Bemerkung(en):

    Literaturangaben

  6. Muster in der Phraseologie
    Monolingual und kontrastiv
    Autor*in:
    Erschienen: 2020
    Verlag:  Verlag Dr. Kovač, Hamburg

    Universitätsbibliothek der LMU München
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Export in Literaturverwaltung   RIS-Format
      BibTeX-Format
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Mellado Blanco, Carmen; Holzinger, Herbert J.; Iglesias Iglesias, Nely Milagros; Mansilla Pérez, Ana
    Sprache: Deutsch; Englisch
    Medientyp: Konferenzschrift
    ISBN: 9783339114327; 3339114323
    Weitere Identifier:
    9783339114327
    RVK Klassifikation: GC 8042 ; ES 460
    DDC Klassifikation: Sprache (400)
    Auflage/Ausgabe: 1. Auflage
    Körperschaften/Kongresse: Productive patterns in phraseology (Veranstaltung) (2019, Santiago de Compostela)
    Schriftenreihe: Studia Phraseologica et Paroemiologica ; Band 4
    Weitere Schlagworte: Linguistik; Kontrastive Phraseologie; Muster; Konstruktionen; Usuelle Wortverbindungen; Modifikationen; Idiomatik; gesprochenes Deutsch; Linguistik; Kontrastive Phraseologie; Muster; Konstruktionen; Usuelle Wortverbindungen; Modifikationen; Idiomatik; gesprochenes Deutsch
    Umfang: 276 Seiten, 29 Illustrationen, 21 cm x 14.8 cm, 368 g
    Bemerkung(en):

    Preface: "The present volume contains thirteen selected contributions on the topic of "phaseological pattern", which were presented at the international conference of the European Society for Phraseology EUROPHRAS 2019. The conference took place under the title "Productive Patterns in Phraseology" in Santiago de Compostela (Spain) on 24-25 January 2019 ... "

  7. Professional Java EE design patterns
    Autor*in: Yener, Murat
    Erschienen: 2015
    Verlag:  Wrox, Indianapolis, Ind.

    Hochschule Augsburg, Bibliothek
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Universität der Bundeswehr München, Universitätsbibliothek
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Universitätsbibliothek Passau
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Technische Hochschulbibliothek Rosenheim
    keine Ausleihe von Bänden, nur Papierkopien werden versandt
    Export in Literaturverwaltung   RIS-Format
      BibTeX-Format
    Hinweise zum Inhalt
    Volltext (URL des Erstveröffentlichers)
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Theedom, Alex (Verfasser)
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Ebook
    Format: Online
    ISBN: 9781119209393; 9781118843581; 9781118843451; 9781118843413
    Weitere Identifier:
    RVK Klassifikation: ST 250
    Schriftenreihe: Programmer to programmer
    Schlagworte: Internet; Java (Computer program language); World Wide Web; Internet; Java (Computer program language); World Wide Web; Java (Computer program language); Internet; World Wide Web; Implementierungssprache; Entwurfsmuster; Java EE 7; Java Enterprise; Muster <Struktur>
    Umfang: 1 Online-Ressource (XXIX, 224 S.), graph. Darst.
    Bemerkung(en):

    Master Java EE design pattern implementation to improve your design skills and your application's architecture Professional Java EE Design Patterns is the perfect companion for anyone who wants to work more effectively with Java EE, and the only resource that covers both the theory and application of design patterns in solving real-world problems. The authors guide readers through both the fundamental and advanced features of Java EE 7, presenting patterns throughout, and demonstrating how they are used in day-to-day problem solving.

  8. The psychology of computer vision
    Autor*in:
    Erschienen: 1975
    Verlag:  McGraw-Hill, New York [u.a.]

    Universitätsbibliothek Bielefeld
    HI973 P9C7V
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Universitätsbibliothek Bielefeld
    BK100 P9C7V
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Ruhr-Universität Bochum, Verbundbibliothek IB Fachbibliothek für Geographie, Geologie, Mathematik, Psychologie
    Bc 188
    keine Fernleihe
    Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
    WWB8376
    Ausleihe von Bänden möglich, keine Kopien
    Universität Bonn, Institut für Psychologie, Bibliothek
    5.1 PSYC
    keine Fernleihe
    Universitäts- und Landesbibliothek Düsseldorf
    sprw300.w783
    Universitätsbibliothek der Fernuniversität
    TZH/WIN
    Universitätsbibliothek Kaiserslautern
    INF 844/052
    Regionales Rechenzentrum der Universität zu Köln, Bibliothek
    006/004.019/Wins/3
    Ausleihe von Bänden möglich, keine Kopien
    Institut für Mathematikdidaktik, Bibliothek
    315/5I5
    keine Fernleihe
    Bibliotheken Romanisches Seminar und Institut für Slavistik
    AL 360/7
    keine Fernleihe
    Universitätsbibliothek Paderborn
    TVV1630
    Universitätsbibliothek Trier
    DR/lb8137
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      BibTeX-Format
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Winston, Patrick Henry (Hrsg.); Horn, Berthold K. P. (Sonstige)
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Buch (Monographie)
    ISBN: 0070710481
    RVK Klassifikation: ES 900 ; CP 4000
    Schriftenreihe: McGraw-Hill computer science series
    Advanced book program
    Schlagworte: Muster <Dekor>; Sehen; Wahrnehmung; Computer; Künstliche Intelligenz
    Umfang: VI, 282 S., Ill., graph. Darst.
  9. Professional Java EE design patterns
    Autor*in: Yener, Murat
    Erschienen: 2015
    Verlag:  Wiley, Indianapolis, Ind.

    Fachhochschule Dortmund, Hochschulbibliothek
    TYD 1704
    Technische Hochschule Köln, Hochschulbibliothek
    TWCR5270
    Ausleihe von Bänden möglich, keine Kopien
    Universitäts- und Landesbibliothek Münster
    3W 6224
    uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe
    Export in Literaturverwaltung   RIS-Format
      BibTeX-Format
    Quelle: Verbundkataloge
    Beteiligt: Theedom, Alex (Verfasser)
    Sprache: Englisch
    Medientyp: Buch (Monographie)
    ISBN: 9781118843413
    Schriftenreihe: Wrox Programmer to Programmer
    Schlagworte: Java Enterprise; Java EE 7; Muster <Struktur>; Entwurfsmuster; Implementierungssprache
    Umfang: XXIX, 224 S., graph. Darst.